一、EVOCHEM 公司

EVOCHEM Advanced Materials GmbH 自豪地推出其新的產品組合 - 涵蓋純金屬和超純金屬，旨在滿足行業的研發需求。

產品組合涵蓋各種蒸發材料和配件、高效濺射靶材、晶體監測等。

EVOCHEM Advanced Materials 為薄膜應用提供大且全面的材料系列，包括光學和配件、磨損和裝飾涂層、微電子和半導體、光學數據存儲、顯示器和太陽能電池。

濺射靶材，包括濺射靶材鍵合和回收

蒸發材料， 提供 60 多種蒸發材料

PVD 消耗品， 坩堝、舟和細絲

在 6MHz 和 5MHz 下監測 Au、Ag ，合金的晶體

蒸發盤管，為您的金屬化項目

EVOCHEM 全面的產品組合為您的個性化應用提供解決方案。高純度蒸發材料有助于實現您想要的涂層特性;其優化的熔煉性能提高了產量。低噴吐特性允許為關鍵應用提供低缺陷涂層。

我們提供用于濺射設備大且全面的材料系列，提供流行的幾何形狀（和尺寸），包括環形、S 型槍和圓形、矩形、三角形和平面目標。

EVOCHEM 還提供用于電子束蒸發器、離子源和熱蒸發器的組件。產品范圍包括坩堝、舟和細絲，這些坩堝、舟和細絲由與蒸發材料和濺射靶材相同的優質材料制成。

EVOCHEM 的純金屬和超純金屬新產品組合幾乎包括從鋁到鋯的金屬。這些金屬的數量和形式范圍很廣，包括粉末、線材、箔、片材、棒材、管材和靶材。提供的純度范圍為 99.00% - 99.999999%。

二、EVOCHEM 薄膜產品

1、 疏水材料-新一代防水防油材料

EVOCHEM的新超疏水產品線（EVOCHEM ETC-TOP，EVOCHEM ETC-PRO，EVOCHEM ETC-PRO UV+ & EVOCHEM ETC-PRO AB+）提供了卓越的工藝和薄膜性能。我們開發了復雜的材料，可以減少污垢和指紋在表面上的粘附，同時提高耐磨性。

新的超疏水片劑可以從電阻加熱的船上沉積，也可以通過使用面涂層襯墊的電子束沉積。

主要產品特點：

防指紋和防污

超疏水–疏油–超光滑表面

適用于幾乎全部基材

EVOCHEM ETC 將表面能降至最低，因此具有易于清潔的特性。此外，涂層（例如 AR 層）和基材本身受到非常光滑和耐磨的納米層的保護。

ETC-產品范圍

產品系列包括ETC-TOP、ETC-PRO、ETC-PRO UV+、ETC-PRO AB+。

EVOCHEM ETC-TOP 代表了我們 ETC 產品系列的入門級質量。高耐磨性和良好的易清潔性能使 ETC-TOP 產品系列成為非常好的疏水表面涂層。

EVOCHEM ETC-PRO 是眼科行業的專用產品線。高耐磨性和易于清潔的表面使其成為全球領先眼科公司的best選擇。我們強大的品牌和市場占有率也將成為您和您的客戶的關鍵差異化因素。

EVOCHEM ETC-PRO UV+

EVOCHEM ETC-PRO UV+ 是我們的納米涂層產品線，具有更高的耐氣候要求。ETC-PRO UV+ 顯著提高了紫外線照射下的耐污性和耐化學性 - 同時保持高度光滑的表面。即使在極端條件下（600 小時 QUV 和 990 小時氙弧燈），PRO UV+ 涂層物質的接觸角也能保持在 >100°。

EVOCHEM ETC-PRO AB+

EVOCHEM ETC-PRO Abrasion+ 是我們的疏水應用，在整個產品線中具有高的耐用性和光滑性。專用于滿足對優質產品和基材的高要求。ETC-PRO AB+ 涂層基材可實現 >116°的水接觸角。ETC-PRO AB+ 是具有卓越性能要求的高端納米涂層的即用型應用。

EVOCHEM ETC 片劑非常易于處理以進行沉積。可以從各種電阻加熱舟（由 Mo 或 Ta 制成）以及間接電子束加熱進行沉積。

EVOCHEM 片劑和載體的設計和制造均以實現性能。物理特性允許穩定和受控的涂層工藝，從而實現每次涂層運行的大產量。

EVOCHEM ETC 可以從電阻加熱的舟中蒸發，也可以通過間接電子束加熱蒸發。蒸發溫度范圍為 400 - 800°C（建議 600°C）。將 EVOCHEM ETC 涂布到氧化膜上可獲得最佳效果，尤其是在 SiO2 薄膜（AR 涂層的頂層）上。

應用： EVOCHEM ETC-TOP、EVOCHEM ETC-PRO、EVOCHEM ETC-PRO UV+ 和 EVOCHEM ETC-Pro AB+ 可作為即用型片劑提供，用于熱氣相沉積和電子束工藝，使用面涂層襯墊。或者，涂層可以通過濕化學工藝（浸漬、噴涂、鼓注）完成 - ETC-LIQUID 和 ETC-METAL-LIQUID。

作用方式：ETC 的一端與其分子鏈的一端形成共價、高度穩定的氧化物表面（例如 SiO2），而另一端（全氟化）則遠離表面對齊。因此，ETC 將表面能降至低，因此具有易于清潔的特性。此外，涂層（例如 AR 層）和基材本身受到非常光滑和耐磨的納米層的保護。EVOCHEM 的新產品組合已經符合最新的立法要求，其中產品或整個生產過程中均不存在全氟辛烷磺酸 （PFOS） 和全氟辛酸 （PFOA）。

性能： 該材料通過氣相沉積施加在 SiO2 層上，提供 117°的水接觸角。在整個測試過程中，即使在 1 kg 壓力下循環 8000 次后，接觸角也不會低于 105°。ETC-LIQUID - 為手機和觸摸顯示器開發 - 已顯示出更高的耐磨性。盡管表面粗糙度降低了約 85%，但鏡片的成型可以很容易地進行，而無需對生產過程進行任何改變。研磨后，多項測試表明涂層完全松弛，表面沒有留下“鬼痕”。

綠色生產：藥丸以泡罩包裝提供，每單位 12 片。每個包裝的保質期為 6 個月。此外，我們的載體片劑可以重復使用大約 10 倍，從而進一步減少浪費和成本。

EVOCHEM 在制造過程中不使用或故意添加 PFOA、其鹽類和 PFOA 相關化合物。因此，EVOCHEM 認為此類物質未包含在其產品中。EVOCHEM 有一個系統，可以定期檢查其產品代表性樣品中 PFOA、其鹽類和 PFOA 相關化合物的含量，并可以確認這些樣品符合修訂后的 （EU） No 2020/784 法規。

2、濺射靶材

們提供大且全面的濺射靶材系列。提供流行的幾何形狀（和尺寸），包括環形、S 型槍和圓形、矩形、三角形和平面目標。

大多數濺射靶材可以制造成各種形狀和尺寸。單件結構的尺寸存在一些技術限制。在這種情況下，可以產生多段目標，其中各個段通過對接或斜面接頭連接在一起。

濺射靶材有多種成分、各種純度水平可供選擇，使我們的客戶能夠將靶材與其特定要求相匹配。

與電子束或熱蒸發相比，濺射沉積具有可重復性和更簡單的過程自動化等優點。已經開發了濺射技術的多種變體。通過氧化/氮化濺射金屬離子，可以從金屬濺射靶材上沉積光學薄膜，以沉積所需成分的氧化物或氮化物薄膜層。

直流磁控濺射是用于導電金屬靶材的技術。氧化物（絕緣）濺射靶材可以通過射頻濺射進行濺射，但速率較低。幾乎任何材料合金、混合物、純金屬、氧化物、氮化物、硼化物、碳化物都可以作為濺射靶材提供。

EVOCHEM 提供各種高純度金屬濺射靶材– 純度高達 99.9999%，包括鋁，銻，硼，碳，銪等，可根據客戶需求提供。

EVOCHEM 的產品包含各種氧化物濺射靶材，針對濺射工藝的要求進行了優化。我們的氧化物濺射靶材為光學鍍膜工程師提供了更好的產量、工藝穩定性和更大的設計自由度。

EVOCHEM 提供廣泛的化合物和混合物 –適合高、中、低折射率薄膜的應用和性能。

物理氣相沉積工藝 （PVD 工藝） 是一種沉積工藝，其中蒸發材料以原子的形式從固體源蒸發，并以蒸汽的形式通過真空或低壓（或等離子體）環境傳輸到蒸汽聚集的基材。

PVD 工藝可用于使用反應沉積工藝沉積元素（蒸發材料）和合金的薄膜。真空沉積是一種 PVD 工藝，其中來自熱汽化源的蒸發材料到達基板，與氣體分子幾乎沒有碰撞。真空沉積用于形成光學干涉涂層、鏡面涂層、裝飾涂層、導電薄膜（也稱為 TCO 薄膜、ITO）、耐磨涂層和防腐蝕涂層。

3、高品質的蒸發材料

EVOCHEM 全面的蒸發材料產品組合為您的個性化應用提供解決方案。高純度蒸發材料有助于實現您想要的涂層特性;其優化的熔煉性能提高了產量。低噴吐特性允許為關鍵應用提供低缺陷涂層。

獨特的生產能力使我們能夠定制制造任何所需的形狀和純度，數量從幾克到幾百公斤不等。使用專有涂層機進行持續的質量測試和控制，可實現零故障生產過程。

我們的蒸發材料代表了當今好的涂層材料，這些材料經過加工或專門開發，以滿足科學實驗、產品和工藝開發或全面生產的苛刻要求。

蒸發材料均隨附與所提供批號相關的相應材料數據表 （MSDS）、RoHS 證書和分析證書 （COA）。

我們的產品范圍包括 60 多種蒸發材料，包括混合物和物質，以及氟化物、氧化物、硫化物和金屬，以顆粒、片劑或圓盤形式提供。

EVOCHEM還提供PVD 耗材等。